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探討一下光譜分析儀總體的發(fā)展趨勢
光譜分析儀由一個入射狹縫，一個色散系統，一個成像系統和一個或多個出射狹縫組成。在光譜的測量、各參考點通路信號光功率、各參考點光信噪比、光放大器各個波長的增益系數和增益平坦度的測試都可以使用光譜分析儀。現在也集成了WDM的分析軟件，可以很方便地把WDM的各個波長的中心頻率、功率、光信噪比等參數用菜單的方式顯示出來。總體發(fā)展趨勢是測量精度更高、測量范圍更大、體積更小、智能化程度更高、使用更方便。
光譜分析儀的性能特點都有哪些呢？
1、采用全新激發(fā)電路，無論是高頻火花還是直流電弧模式測試結果均具有出色的精密度和準確度。
2、功能強大，三種分析模式可選：快速材料分選、牌號鑒定以及X定量分析。
3、X化的電源管理模式，強大的內置電池可提供24V的電壓輸出，無外接電源場所也可提供儀器工作數天所需電力。連接外接電源時，電池則自動切換到充電模式。
4、采用12.1英寸觸摸屏操作，根據使用需要，可方便調節(jié)觸摸屏角度。
5、模塊化設計，主機部件體積小、重量輕、可拆卸，輕松面對一般光譜儀難以到達之場所。
6、多CCD檢測系統，高達30，000條光路通道，滿足所有標準物質牌號鑒定及化學元素檢測所需。在紫外激發(fā)槍的幫助下，還可進一步檢測P、S等紫外元素。
7、光學系統自動校正，無須人工操作，且校正過程后臺自動運行，不影響正常操作，該光譜儀無須預熱，即開即用。
8、采用X特的噴射電極技術，適應各種復雜形狀樣品，即使面對細如1mm的線材也可在無任何夾具的情況下準確測定。
9、HPC高性能光導纖維，無飽和效應，無信號衰減，具有X異的傳輸性和穩(wěn)定性，可以X地測定痕量C及其它元素。